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技術・工業および知的財産権供与に関わる制度

最終更新日:2017年10月23日

技術・工業および知的財産権供与に関わる制度

主に知的財産権法(2002年法律82号)によって規定されている。

知的財産権法(2002年法律82号)の内容は、4分野に分けられる。

  1. 特許権、実用新案、集積回路のためのレイアウト設計および非公開情報
  2. 商号権、商標権、地理的表示および意匠権
  3. 著作権および著作隣接権
  4. 植物品種

特許権、商標、著作権の保護期間などについては、次のとおり。

  1. 特許権
    • 保護期間は出願の日から20年。
    • 特許出願の際には出願料を支払う必要がある。また、特許登録の2年目以降から特許権の存続期間の満了まで、毎年特許料を支払う必要がある。
  2. 商標
    • 保護期間は、出願の日から10年(商標権者の請求により同一期間の更新可能)。
    • 商標登録は、規定に基づく申請料とともに商業登録局宛に申請を行う。
    • 商標権侵害は、商法(1997年法律17号)第66条に基づき、不正競争行為として罰せられる。
  3. 著作権
    • 本の著作権の保護期間は、法人については第1版の出版から50年。自然人については、創作時から死後50年。
特許審査ハイウェイ

日本の特許庁とエジプト特許庁は、特許審査ハイウェイ(PPH)を2015年6月1日から開始することで合意。日本企業等は、PPHの利用により、エジプトにおいて早期に特許権を取得することが可能となった。

経済産業省ニュースリリース:
アフリカにおいて初となるエジプトと「特許審査ハイウェイ」を開始します外部サイトへ、新しいウィンドウで開きます

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