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技術・工業および知的財産権供与に関わる制度

最終更新日:2017年03月03日

技術・工業および知的財産権供与に関わる制度

主に知的財産権法(2002年法律82号)によって規定されている。

知的財産権法(2002年法律82号)は、4つの分野別に規定されている。

  1. 特許権、実用新案、集積回路のためのレイアウト設計および非公開情報
  2. 商号権、商標権、地理的表示および意匠権
  3. 著作権および著作隣接権
  4. 植物品種

特許権、商標、著作権の保護期間などは、次のとおり。

  1. 特許権
    • 保護期間は出願の日から20年。
    • 特許を出願する際には、出願料を支払う必要がある。また、特許登録の2年目以降から特許権の存続期間の満了まで、毎年特許料を支払う必要がある。
  2. 商標
    • 保護期間は、出願の日から10年(商標権者の請求により同一期間の更新可能)。
    • 商標登録は、規定に基づく申請料とともに商業登録局宛に申請を行う。
    • 商標権侵害は、商法(1997年法律17号)66条に基づき不正競争行為として罰せられる。
  3. 著作権
    • 本の著作権の保護期間は、法人については第1版の出版から50年。自然人については創作時から死後50年。
特許審査ハイウェイ

日本の特許庁とエジプト特許庁は、2015年6月1日から特許審査ハイウェイ(PPH)の開始で合意。日本企業等は、PPHの利用によりエジプトにおいて早期に特許権を取得することが可能となり、円滑な事業展開を図ることができる。

経済産業省ニュースリリース:
アフリカにおいて初となるエジプトと「特許審査ハイウェイ」を開始します外部サイトへ、新しいウィンドウで開きます

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