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技術・工業および知的財産権供与に関わる制度

最終更新日:2016年02月08日

技術・工業および知的財産権供与に関わる制度

ロイヤルティーへの源泉課税率は10%。商標、著作権、集積回路レイアウト・デザイン、特許、意匠権などが保護される。


I. 税制および助成制度
1. 概要
非居住者に支払う著作権、意匠権やノウハウなどの使用に対する一般的なロイヤルティーの源泉課税率は、2005年1月1日より10%に引き下げられた。知財立国を目指すシンガポールの政策として、知的財産を競争優位の源泉とする国際的企業の誘致(知的財産誘致)が重視されている。1990年代以降、シンガポールで研究開発や特許等登録を行う海外企業の免税措置が拡大され、2003年には関連するほぼすべての企業所得が免税されるようになった。すなわち、シンガポールで取得された広範な知的財産(特許権、著作権、商標権、意匠権、企業秘密情報等)については、それがシンガポールの法人に帰属することを条件に、キャピタルアローワンス(税務上の減価償却)や研究開発事業資金免税のほか、特許権については特許登録費用の所得控除なども認められている。
2010年には企業の生産性向上や新規事業・技術革新に繋がる投資を促進する支援税制として生産性・革新クレジット(PIC)スキームが導入され、2011~2015賦課年度の5年間にわたって、「研究・開発投資」、「デザイン投資」、「知的財産権買収」、「知的財産権登録」、「自動化投資」、「研修訓練」の6分野について、1分野あたり年間40万Sドルを上限に最高400%分の税額所得控除が認められるようになった。
このPICスキームは2014年度政府予算案で2018賦課年度まで3年間延長され、中小企業に対して新たに「PICプラス」スキームを導入し、PIC適格支出の上限が40万Sドルから60万Sドルに引き上げられた。

(1) 企業向け研究インセンティブ制度(Research Incentive Scheme for Companies:RISC)
企業が新規にR&D活動を開始する場合、もしくは既存のR&D活動を拡張する場合にかかる人件費、研修費、設備投資、知的財産権管理、専門サービスなど費用の一部を助成する制度で、結果的に研究者・エンジニアの雇用促進と能力向上に繋がるプロジェクトが資格対象となる。少なくとも年間15万SドルをR&D活動に支出した企業は、年間最大で20,250Sドルの助成を受けることができる。

申請窓口:EDB
[参考]
http://www.edb.gov.sg/content/edb/en/why-singapore/ready-to-invest/incentives-for-businesses.html外部サイトへ、新しいウィンドウで開きます

(2) 知的財産買収に掛かる減価償却控除(所得税法19B項:Writing Down Allowance for Intellectual Property Acquisition)
企業が第三者の保有する経済的かつ法的な知的財産権を買収する際に5年間の自動減価償却により全額を税額控除することができる制度。本制度は2020賦課年度までの時限措置である。2009年1月22日以降に買収するフィルム、テレビ番組、デジタルアニメ、デジタルゲーム、他のメディアコンテンツのうち、認定された知的財産権は、2018賦課年度まで2年間の加速減価償却が認められている。この知的財産権買収に掛かる減価償却は、PICスキームを活用することにより、さらに最高300%まで適格支出の税額控除を受けることができる。

申請窓口:IRAS
[参考]
https://www.iras.gov.sg/irashome/Businesses/Companies/Working-out-Corporate-Income-Taxes/Claiming-Allowances/Writing-Down-Allowances-for-Intellectual-Property-Rights/外部サイトへ、新しいウィンドウで開きます

(3) 研究開発支出の追加控除(所得税法14DA項および14E項)
企業がシンガポール国内でR&D業務を行う場合、もしくは国内の第三者機関にR&D業務を委託する場合、適格R&D支出の150%(14DA項)または200%(14E項)までの追加的税額控除が認められる制度である。14DA項の規定は2014年度政府予算案により2025賦課年度まで10年間延長され、2018賦課年度まではPICスキームの一部として提供され、その適用対象金額に上限が設けられている。一方、14E項の規定は2014年度政府予算案により2020年3月31日まで5年間延長され、PICスキームの上限を超える部分にも適用が可能であり、最大でR&D費用の200%までの所得控除が可能となっている。

申請窓口:IRAS
[参考]
https://www.iras.gov.sg/irashome/uploadedFiles/IRASHome/e-Tax_Guides/etaxguide_IIT_RnDTaxMeasures_2015-01-22.pdf (628KB)

(4) 技術企業商業化支援制度(Technology Enterprise Commercialisation Scheme:TECS)
電子、化学、生物科学各分野の中小企業や研究者などを対象にR&D活動を支援する助成金制度で、米国の中小企業技術革新制度(SBIR)に倣い、革新的なアイデアを早い段階から支援、商業化に結び付けることを目指す。支援制度は「概念の証明(POC)」と「価値の証明(POV)」の2部門に分けて実施する。POCでは、未完成のビジネスの構想を対象に、25万Sドルを上限として適格支出の最大100%を支援する。一方、POVでは既存の研究をさらに深める企業を対象に、50万Sドルを上限に適格支出の最大85%を助成する。また、両部門に共通した応募資格として、[1] 現地資本30%以上、[2] グループの売上高1億Sドル未満、または、従業員数200人未満、[3] シンガポールで設立された法人、[4] 会社設立後5年以内、[5] 最低1人の技術者・科学者がいることを条件としている。

申請窓口: SPRING
[参考]
http://www.spring.gov.sg/Nurturing-Startups/Pages/technology-enterprise-commercialisation-scheme.aspx外部サイトへ、新しいウィンドウで開きます

(5) 生産性・革新クレジット(Productivity and Innovation Credit:PIC)
2010年度予算に盛り込まれた企業の生産性向上や新規事業・技術革新に繋がる投資を促進する支援税制として生産性・革新クレジットが導入され、2011~2018賦課年度の8年間にわたって、「研究・開発投資」、「デザイン投資」、「知的財産権買収」、「知的財産権登録」、「自動化投資」、「研修訓練」の6分野について、1分野あたり年間40万Sドルを上限に400%分の税額所得控除、もしくは中小企業には適格PIC支出(年間上限10万Sドル)の60%の現金払い戻しが受けられるようになった。
「デザイン投資」については支援を受けるデザイン活動が商品化に結び付くとともに、シンガポール知的財産庁(IPOS)に意匠または特許として新規登録される知的財産権の創出に繋がることが条件となっており、デザイン活動の支援税制の運用は、情報通信省(MCI)傘下のデザイン・シンガポール評議会(DSC)が担当する。
このPIC税制は2013年度の税制改正により、PICボーナス制度の導入(2015賦課年度で終了)、自動化設備に関するPIC適用要件の緩和、IPライセンス契約への適用範囲の拡大の3つの点で強化された。
さらに2014年度政府予算案により、2015賦課年度より2018賦課年度まで、適格PIC支出の上限が40万Sドルから60万Sドルまで引き上げられ、400%分の税額所得控除が受けられるようになった(PICプラス・スキーム)。

問い合わせ窓口:IRAS
[参考]
http://www.iras.gov.sg/irashome/PIcredit.aspx外部サイトへ、新しいウィンドウで開きます


<税制および助成制度に関する問い合わせ先>
経済開発庁(Economic Development Board of Singapore:EDB)
250 North Bridge Road
#28-00 Raffles City Tower
Singapore 179101
Tel:+65-68326832
Fax:+65-68326565
URL:www.edb.gov.sg外部サイトへ、新しいウィンドウで開きます


内国歳入庁(Inland Revenue Authority of Singapore:IRAS)
55 Newton Road
Revenue House, Singapore 307987
Tel:+65-63568622
Fax:+65-63514360
URL:www.iras.gov.sg外部サイトへ、新しいウィンドウで開きます


規格生産性革新庁(SPRING Singapore)
1 Fusionopolis Walk
#01-02 South Tower, Solaris
Singapore 138628
Tel:+65-62786666
Fax:+65-62786667
URL:www.spring.gov.sg/外部サイトへ、新しいウィンドウで開きます


2. 知的財産権の登録手続き
シンガポール知的財産庁(IPOS)では知的財産の権利化に欠かせない特許や商標等について、「ePatents」(特許出願)、「eTradeMarks」(商標登録出願)、「eDesign」(登録デザイン出願)というオンライン出願サービス(eFiling)を提供している。さらに、知的財産の創造で重要となる研究開発の許認可や補助金等の申請、免税等の申請など手続きも電子政府の一環としてオンライン化されている。これらの手続きに要する期間は総じて短く、シンガポールにおける知的財産経営の促進や、海外からの優秀な企業の誘致や人材確保に貢献しているといわれる。


3. 知的財産インフラ関連
(1) 政府は、商標、特許に関する規制や登録事務を手掛けていた団体を2001年4月、法務省傘下の法定機関としてシンガポール知的財産庁(IPOS)に改組した。

(2) 2002年9月には特許や商標、著作権などを専門に裁く「知的財産裁判所(Intellectual Property Court)」が高等裁判所(High Court)ビル内に設置されている。この法廷は、特許・意匠・商標事件の第1審裁判所の機能を有しており、第2審を担当する控訴裁判所(Court of Appeal)とともに侵害事件を審理する。また、知的所有権の保護や管理などについて講習や訓練を行う「知的所有権アカデミー(IP Academy)」も2003年1月に開設された。

IP Academyは下記参照。
http://www.ipacademy.com.sg/外部サイトへ、新しいウィンドウで開きます

(3) IPOSの組織は、法務クラスタ(Regal Cluster)、審理調停部(Hearings & Mediation Group)、戦略立案政策部(Strategic Planning and Policy Department)、特許サーチ審査部(Patent Search & Examination Unit)、振興クラスタ(Promotion Cluster)、コーポレートサービス部(Corporate Service Group)、能力構築部(Capability Building Group)の7部で構成され、法務クラスタの中に、[1] 特許登録局(Registry of Patents)、[2] 商標登録局(Registry of Trademarks)、[3] 意匠登録局(Registry of Designs)、[4] 植物品種登録局(Registry of Plant Varieties)の4局が設置されており、それぞれの審査・登録業務が行われている。

(4) 2013年3月、知的財産権(IP)ハブマスタープランが発表され、シンガポールをアジアにおける「IPハブ」と位置付け、同国が権利保護の強化やIPそのもの、またはこれを利用した国内・国際取引の拡大を図るための、信頼性ある中立的な拠点となることが提唱された。このIPハブマスタープランでは、[1] IP取引・管理、[2] IP登録、[3] IP紛争解決、のハブとなることの3点を通じて、シンガポールがIP関連取引の活発かつ持続的な拠点になることを掲げている。

IPハブマスタープランは下記参照。
https://www.ipos.gov.sg/Portals/0/Press%20Release/
IP%20HUB%20MASTER%20PLAN%20REPORT%202%20APR%202013.pdf
 (1.51MB)

(5) IPOSは2015年9月1日からASEANの知財庁として初めて特許協力条約(PCT)の国際機関となり、PCT国際出願に対する国際調査機関(ISA)・国際予備審査機関(IPEA)として本格稼働を開始した。IPOSがPCT国際機関となったことで、シンガポール企業の知的財産の迅速な保護にも繋がるとみられている。

問い合わせ先:
シンガポール知的財産庁(The Intellectual Property Office of Singapore:IPOS)
51 Bras Basah Road #01-01
Manulife Centre Singapore 189554
Tel:+65-6339 8616
Fax:+65-6339 0252
URL:www.ipos.gov.sg外部サイトへ、新しいウィンドウで開きます



II. シンガポールで保護される知的財産権の概要
シンガポールは1990年に世界知的所有権機関(WIPO)設立条約に加盟し、1995年に世界貿易機関(WTO)の貿易関連知的所有権協定(TRIPS)、パリ条約、特許協力条約(PCT)、2000年に商標の国際登録に関するマドリッド議定書、2004年に植物新品種保護条約(UPOV)などと主要な知的財産に関する条約に加盟し、それと共に知的財産法制の整備も進めてきた。シンガポールはコモンローの国であり、知的財産権は制定法とコモンローの両方によって保護されている。制定法としては、特許法(Patents Act)、登録意匠法(Registered Designs Act)、著作権法(Copyright Act)、集積回路配置設計法(Layout-Design of Integrated Circuits Act)、地理的表示法(Geographical Indications Act)、植物品種保護法(Plant Varieties Protection Act)が制定されている。また営業秘密やグッドウィルは、コモンローによって保護されている。

1. 特許権
(1) 1994年に特許法が制定されるまで、英国の特許または欧州特許条約(EPC)による英国を指定した特許を、一定期間内に登録することにより保護されていた。

(2) シンガポールはパリ条約(Paris Convention)、特許協力条約(PCT)、ブタペスト条約(Budapest Treaty)などに加盟している。シンガポールで特許の保護を得るには、パリ条約上の優先権制度を利用して直接シンガポールに出願することにより、あるいはPCTを利用してシンガポールを指定国とすることによる。

(3) 出願はオンライン出願サービス「ePatents」を利用するか、またはIPOS特許登録局(Registry of Patents)に提出するが、新規性調査(Novelty Search)および実体審査(Substantive Examination)はオーストリア、デンマーク、ハンガリーの特許庁に外注しているのが特徴的である。

(4) 出願人がシンガポール以外の国に同一の発明を出願している(対応外国出願)場合、対応外国出願がオーストラリア、カナダ、ニュージーランド、英国、米国、日本および欧州特許庁(英国を指定)のいずれかであれば、特許証の写しを提出すると、シンガポール出願も自動的に特許となる。修正実体審査とも呼ばれるこの制度は、IPOSが方式審査を実施するが、自前の実体審査はほぼ実施しないに等しい状態で、外国の所定特許庁の審査結果をそのまま認証する方向で、サーチと審査報告書の添付を義務付けるにとどめている。

(5) 特許権の存続期間は、出願日から20年。

(6) 日本の特許庁とIPOSは2009年6月、特許審査手続きの迅速化に向けて「特許審査ハイウエー(PPH)」と呼ぶニ国間協力の枠組みを導入することで合意した。PPHは、一方の国で認められたものと同じ内容の特許出願を他方の国が受けた場合に、相手国の審査結果を活用することで審査作業の重複を省く仕組み。特許審査期間の短縮や特許の質の向上、特許審査機関の負担軽減といった効果が見込まれている。シンガポールは米国と2009年2月からPPHの試行を開始しており、ニ国間PPHでは日本が2国目となる。

(7) 2014年2月に改正特許法が施行され、特許審査における「自己評価」制度から「Positive Grant System」への変更、弁理士(Patent Agent)制度の一部自由化、医薬品の所管法令変更などが行われた。


2. 意匠権
(1) シンガポール独自の登録意匠法が2000年11月に施行され、シンガポールで意匠の保護を求めるにはオンライン出願サービス「eDesign」を利用するか、またはIPOSの意匠登録局へ出願しなければならない。

(2) シンガポールでは、意匠出願に関し方式的な審査のみで、実体審査は行われない(意匠法19条は登録要件を審査しない旨を明記している)。ただし、明らかに新規性がない、あるいは不登録事由に該当しているとIPOSが判断した場合、出願は拒絶される。

(3) 2005年1月に施行された意匠(改正)法で、国際登録協定である「ハーグ協定」に加盟することにより意匠の国際登録が簡素化された。「ハーグ協定」に加盟すれば世界知的所有権機関(WIPO)を窓口とした意匠登録が加盟国内で一括適用されるようになる。

(4) 意匠権の存続期間は登録日から当初5年間で、以後2回まで更新可能で、最長存続期間は15年間となる。


3. 商標権
(1) 商標法は1998年施行され、シンガポールが加盟している主な国際条約は、WTO、パリ条約、マドリッド議定書、ニース協定など。

(2) シンガポールでの出願は、オンライン出願サービス「eTradeMarks」を利用するか、またはIPOS商標登録局に提出し、出願された商標が不登録事由に該当しないときは識別力を含む実体要件の審査が行われる。審査後、出願公告され、2カ月以内に異議申立がなければ登録される。

(3) 2004年7月に施行された2004年商標(改正)法において、周知商標の定義が明確化され、周知商標と類似する商標の登録拒否と周知商標所有者に対する保護が法制化されている。

(4) 商標権の存続期間は出願日から10年間で、その後、10年ごとに更新が可能。


4. 著作権
(1) 著作権法は1987年に制定された。シンガポールはベルン条約およびWTOのTRIPS協定に加盟しており、当条約の下、所有権者はシンガポールで登録することなく、自動的に保護される。シンガポール国民または居住者によって創造された作品(出版されているか否かを問わない)は、通常、米国やカナダ等ベルン条約やWTOのTRIP協定の加盟国で著作権を出願しており、所有権者となれば、シンガポールのみならず米国、日本など100以上の加盟国で著作権が保護される。シンガポールはこの他、パリ条約、パテント協力条約、ブダペスト条約という3つの国際的著作権協定のメンバーである。

(2) 著作権法は2005年1月に改正法が施行され、インターネットを通じた音楽、映画、コンピュータープログラムの不法ダウンロードは犯罪行為と見なされ、2万Sドル以下の罰金か6カ月以下の禁固、あるいはその両方が科される。従来規定では、著作権者が容疑者を相手取り民事訴訟を起こす必要があり、罰金額も不法行為対策、訴訟費用以下というケースが多かった。改正は、米国・シンガポール自由貿易協定(FTA)の要件を満たすための措置で、甚だしく、あるいは商業的利益を目的に著作権を侵害したものは起訴対象となる。

(3) 著作権法はさらに2014年12月に改正法が施行され、音楽や動画ファイルなどの違法ダウンロード対策として、ケーブルテレビ会社などのコンテンツ保有者は裁判所命令を取得し、著作権を著しく侵害する違法サイトへのアクセスをインターネット接続事業者(ISP)に遮断させることが可能となった。

(4) 著作権に関する侵害については「著作権仲裁所(Copyright Tribunal)」が担当しており、著作権に関する紛争解決、著作物の使用に際する公正な報酬の決定等を手掛けている。著作権仲裁所の事務局はIPOSが担当している。

(5) 著作権の存続期間は、次のとおりである。
a. 公表された文学作品、ドラマ、ミュージカル、美術作品の場合、創作者の没後70年間。創作者の没後に初めて公表された作品は、初公表日から70年間。
b. 文学作品、ドラマ、ミュージカル、美術作品の編集著作物(配列)は、最初の編集日から25年間。
c. テレビ番組、ラジオ番組の場合、最初の放送日から50年間。
d. 音楽、映画作品の場合、最初の発表日から70年間。
e. 演劇の場合、最初の公演日から70年間。


5. 集積回路配置設計
(1) 1999年2月に集積回路配置設計法が施行され、集積回路(IC)の配置設計の所有権者に対して制定法上の保護が与えられた。

(2) シンガポールでは集積回路配置設計を保護するための出願・登録は不要であり、配置設計の所有権者がシンガポール、WTO加盟国または別途規定される特定国の市民または居住者であれば、集積回配置設計法において定められた保護条件を満たす限りにおいて、自動的に保護される。

(3) 集積回路配置設計の存続期間は、配置設計完成から5年以内に商業生産が開始された場合には、商業生産開始時から10年間、または配置設計完成時点から15年間。


6. 地理的表示
(1) 地理的表示法が1999年1月に施行され、この法律により、地理的表示が特定する商品の生産業者および商取引業者に制定法上の保護が与えられた。

(2) シンガポールでは地理的表示を保護するための出願・登録は不要であり、WTO加盟国、パリ条約加盟国等の地理的表示のうち、地理的表示法において定められた保護条件を満たす限りにおいて、自動的に保護される。


7. 植物品種保護
(1) 植物品種保護法が2004年6月に制定され、この法律により植物の新品種に対する開発者の権利保護が認められるようになった。植物品種保護法の下で保護されている新品種は蘭8種、観葉・水生植物5種、地元の野菜2種。植物品種保護法および植物品種保護規則は2014年7月30日付で一部改正され、同法の適用範囲が、現在15品種からすべての品種に拡大され、審査手続きにつき、他国の審査官への権限移譲が可能となった。

(2) 植物新種の存続期間は権利付与日から25年間。


IP関連法規の改正状況については、IPOSのウェブサイトから参照することができる。

[参考]
http://www.ipos.gov.sg/AboutIP/IPLegislation/LegislationUpdates.aspx外部サイトへ、新しいウィンドウで開きます

「知的財産に関する情報」のページもご参照ください。

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