知的財産ニュース 商標・デザインの先進5庁、発足10周年記念共同宣言文を採択

韓国、次期議長国に選出され来年会合を韓国で開催

韓国特許庁は、10月24日から29日まで、ベルギーのブリュッセルで開催された商標・デザイン分野の5庁協議体（※）の年次会合で5庁が商標・デザイン分野の共同宣言文の採択に合意したことを明らかにした。
※2012年先進5庁（韓国・米国・欧州・日本・中国）の商標・デザイン協議体を発足し、2015年に商標分野（TM5）とデザイン分野（ID5）体制に分離

採択された共同宣言文の内容は以下のとおりである。

商標分野では、ここ10年間5庁が様々な研究課題を通じて中小企業の成長および経済発展に貢献したことを明らかにした。

1. 環境変化に対応し、透明でアクセスしやすい商標システムの構築
2. ユーザーの利便性を高めるための5庁間制度の調和
3. 持続的なユーザーとの協力を決議した。

デザイン分野では、最近、新技術の発達およびデジタルトランスフォーメーションによりデザイン制度のユーザーのニーズが変化している点に注目した。

1. 急変する環境に対するデザイン保護制度の対応力の強化
2. ユーザー向けの質の良いサービスの提供
3. ユーザーとの交流を通じてデザイン分野の協議体（ID5）の協力性と活用度の向上を決議した。

また、5月に中国がハーグ協定に加盟したことを受け、世界知的所有権機関（WIPO）が参観する中、5庁の制度とハーグ国際デザイン出願制度間の相互利用性の円滑化のために努めることを約束した。

一方、韓国はこの年次会合で次期議長国に選出され、2013年と2018年以降三回目で商標・デザイン分野の5庁協議体（TM5/ID5）の実務・中間・年次会合を開催（2023年）する予定である。

韓国特許庁の商標デザイン審査局長は「今年は商標・デザイン協議体が発足して10年を迎える年であり、これまで韓国は名実ともに商標・デザイン制度をリードする国となった」とし、「特許庁は来年会合の議長国として重い責任を感じ、商標・デザイン規範の国際協力をリードする」と述べた。