知的財産ニュース 商標五庁・意匠五庁、第4次産業革命時代の新しい共同ビジョンを提示!

2018年TM5・ID5年次会合で共同宣言文を採択

韓国特許庁は、11月1日から6日までインペリアルパレスホテルで開催された商標五庁（TM5））と意匠五庁（ID5）年次会合「第4次産業革命時代を迎え、商標・意匠分野の新たな協力の方向を提示する共同宣言文（Joint Statement）」を採用したと発表した。

＊先進五庁：韓国・米国・欧州・日本・中国

共同宣言文には、人工知能（AI）、ビッグデータおよび拡張現実（AR）などに代表される第4次産業革命時代を迎え、新たに登場する革新的な商品とデザインを保護するために、先進五庁での継続的な協力の推進、行政サービス、審査の品質、分類の改善のための情報や経験の相互共有、利害関係者との対話の窓口の多様化、第4次産業革命に備えた加盟国間の取り組みを共有するための会議の開催などの内容が盛り込まれている。

共同宣言文の採用とともに、先進五庁は第4次産業革命時代を知財権分野でリードしていくための具体的な協力事業に関する議論も始めることにした。

今回の年次会合には米国特許商標庁（USPTO）の商標局長をはじめ、TM5・ID5の高官、世界知的所有権機関（WIPO）の局長などが参加した。会合では海外に商標出願する時に国内との商品名が異なるため、商標登録が拒絶される問題を解決するための「共通認定商品リストの構築方策」と「海外出願における商品名の記載関連情報を提供するための商品名の記載方法」など、15の協力事業の進行経過と今後の計画について議論され、来年から新たに推進する新規事業に韓国が提案した「商標権侵害に関する認識向上方策」事業が採択された。

ID5会合では、各国の意匠保護制度を比較・分析した「意匠登録要件の比較研究」、「新技術デザインの保護研究」など9つの協力課題について議論された。また、韓国が提案した「3Dプリンティングとデザインの保護」、中国と日本が共同で提案した「新規性に関するインターネットの参証引用研究」など6つの協力事業が新たに採用され、さまざまな分野でユーザーに役立つ協力課題を始めることにした。 　

特許庁長は、「2012年にTM5、2015年にID5が発足して以来、TM5とID5は商標・意匠分野の世界的流れと政策の方向を主導する重要な役割を果たしてきた」とし、「今後先進五庁が新たな協力ビジョンに基づき、第4次産業革命時代の商標・意匠分野の変化を導いていく上で礎になれるように努力する」と述べた。