知的財産ニュース 特許庁、「日中韓デザインフォーラム」を開催

2017年5月11日
出所: 韓国特許庁

韓国特許庁は中国特許庁、日本特許庁と共同で5月16日、午前9時からソウル韓国科学技術会館(12階)のSCコンベンションセンターで「日中韓デザインフォーラム」を開催すると発表した。

今年で8回目を迎える「日中韓デザインフォーラム」は韓国特許庁、中国特許庁、日本特許庁の専門家がデザイン保護に関する主な懸案事項とその解決策を議論するために結成され、毎年3カ国で交互に開催されている。2015年には東京で、2016年には北京で開かれた。

今年のデザインフォーラムは「キャラクターデザインの保護(Legal Protection of Character Design)」と題して開催される。フォーラムでは3カ国におけるキャラクター業界の現状を診断し、代案を模索する一方、キャラクターの法的保護のためにデザイナーなどが熟知しておくべき知的財産権に関する情報を紹介する予定だ。

主な内容としては

  1. 知財権によるキャラクターデザインの保護
  2. 中国の漫画イメージデザインの保護および日本のキャラクターの法的保護
  3. 企業が受けたキャラクターIPの侵害と対応事例
  4. 中国のキャラクター産業と知財権の流通および利用実態
  5. 日本のアニメの海外進出

などがあり、各分野の専門家の主題発表と討議が行われる。

今回のフォーラムはすべて同時通訳で行われ、参加者の疑問を解消するために現場で質疑応答の時間も設ける。デザイナーや企業の知財権担当者、弁理士など、キャラクターデザインの保護に興味がある人なら誰でも特許庁のホームページ外部サイトへ、新しいウィンドウで開きますで無料で参加申し込みが可能だ。

特許庁商標デザイン審査局長は「第4次産業革命時代を迎え、機械に代替できない人間ならではの創造活動、特にキャラクターデザインのような文化産業は、未来にその価値がさらに上がる」とし「今回のフォーラムでキャラクターデザインの権利保護に対する認識が広範囲に広がり、健全な創作活動づくりに役立つことを望む」と述べた。

ジェトロ・ソウル事務所知的財産チーム

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