知的財産ニュース 特許庁、ファッションデザインの保護に向けたフォーラムを開催

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韓国特許庁は、(財)ソウルデザイン財団と共同で9月30日(金)午後2時からソウル東大門デザインプラザ(DDP)にて「2016デザイン保護フォーラム-ソウル(副題:Fit your Design right!)」を開催すると発表した。

今回のフォーラムは、ファッション業界における最近の模倣の実態を診断し、対策を模索する一方、ファッション業界のグローバル進出に向けファッションデザイナーが知っておくべき知的財産権情報を紹介するために設けられた。

主な内容としては、ファッションデザインの模倣の類型と原因、特徴等実態分析、ファッションデザインの効果的な権利確保及び紛争対応戦略、ファッションデザインのトレンドの変化による法的問題、ファッションデザイン保護に関する外国の事例及び代案的制度の模索等があり、各分野の専門家によるテーマ発表とパネルディスカッションが行われる予定だ。

デザイナー、学生、企業の担当者等ファッションデザインの権利保護に関心のある人なら誰でもデザインマップ(designmap.or.kr)にて無料で参加申請できる。

特許庁のチェ・ギュワン商標デザイン審査局長は「今回のフォーラムをきっかけに、最近ファッション業界における一部の無分別な模倣行為について警戒心を持ち、ファッションデザイナーが知的財産権を正しく認識することでファッション業界の健全な創作生態系の構築につながることを期待する」と述べた。

一方、特許庁は今年下半期にも、光州デザインセンター、大邱慶北デザインセンター及び釜山デザインセンターと共に地域巡回フォーラムを開催し、デザイン権利保護に対する認識向上に引き続き取り組む予定だ。