知的財産ニュース 国内半導体の最多特許出願、装置はSKハイニックス、材料は「ドンウファインケム」

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ここ6年間、国内の半導体装置分野ではSKハイニックス、材料分野ではドンウファインケムが一番多い特許を出願したことが分かった。半導体装置分野では、均一に技術開発が行われているが、材料分野では特定の企業数社が主に特許を出願していて、比較的偏っている傾向を見せた。

特許庁が最近6年間の半導体装置・材料分野の特許出願動向について調べた結果、SKハイニックスとドンウファインケムがそれぞれ最多特許を出願した。

半導体装置の分野では、SKハイニックスが13％、サムスン電子が12％、セメスが8％の順となった。その他、LGシルトロン3％、チュソンエンジニアリング・ウォンイクIPS・東部ハイテック・KCテック・LIGADPなどがそれぞれ2％だった。上位3社が出願件数全体の3分の1を占めている。

SKハイニックスは、主にマスク製造とフォトリソグラフィに関する特許を出願し、同分野特許を国内で最も多く出願しているニコンに匹敵している。

海外企業は、東京エレクトロンが18％、アプライド・マテリアルズが6％、ラムリサーチとニコンがそれぞれ4％の順だった。

半導体材料の分野では、ドンウファインケムが国内企業のうち最多の24％を占めた。ドンウファインケムは、日本住友化学が100％出資した国内子会社だ。次に第一毛織が13％、LG化学が8％、サムスン電子が6％、SKハイニックス・LGディスプレー・SNSテックがそれぞれ3％だった。

上位10社が出願全体の4分の3を、ドンウファインケムが全体の約25％を占めていて、装置分野に比べると少数の企業が特許を出願していることが分かる。

半導体材料の分野は伝統的に日本勢が目立っていたが、去年から内国人による出願が日本を追い越した。日本は2012年に500件で過去最多となったが、その後出願件数が落ち込み、2013年と2014年には300件水準に減少した。一方、内国人による出願は、2010年に300件だったのが地道に増加し、2014年には380件規模となった。

しかし、この6年間の出願件数全体でみると日本が47％、国内が41％で、まだ日本勢の割合が高くなっている。

特許庁は、「半導体装置と材料の両分野とも大企業による出願は数年間減少しているが、中小企業による出願が材料分野において増加していて、装置分野では従来の推移を見せている。国内・国外の大学と研究所の特許登録率が最も高かった」と説明した。

ペ・オクジン記者