知的財産ニュース KCテック、日立との特許訴訟取下げ

2013年4月25日
出所: デジタルタイムズ

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半導体素材「スラリー」をめぐり、半導体・ディスプレイ設備メーカー「KCテック」と日立化学が行ってきた特許訴訟において、両社が訴訟を取り下げることで合意したことが25日に分かった。

日立化学は、2011年11月、KCテックを相手にセリア(Ceria)CMPスラリー関連の特許侵害訴訟を米国で提起した。「KCテック」は、昨年7月、韓国で日立化学を相手に特許無効審判を提起、これまで訴訟を行ってきたが、両社の合意により、係争にはピリオドが打たれた。

スラリーとは、半導体ウェハー平坦化作業に用いられる研磨液で、「KCテック」は、数年間独自開発を行い商業化に成功した。

カン・スンテ記者

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