知的財産ニュース 日立化成とイノックスの訴訟、韓国では日立化成が勝ち

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ダイボンディングフィルム関連の訴訟戦を行った日本の日立化成と韓国のイノックス間の法廷攻防において日立化成が有利な高地を占領した。今回の判決により日本素材企業の牽制がますます強化する見通しである。

日立化成は、昨年4月に韓国のイノックスが韓国の特許審判院に提起したダイボンディングフィルム(DAF)の特許(第723980号)に対する特許無効審判において、勝訴の判定を受けたと12日に明らかにした。

DAFは、半導体チップと回路基板、チップとチップを連結する時に使用する超薄型フィルムの接着剤だ。半導体後工程においてフラッシューメモリー、ソリードステートドライブ(SSD103)などの製作時に使用する素材だ。

日立化成は去る2011年に、韓国の半導体装備・素材企業であるケイシーテックを相手に、化学的機械練磨(CMP)セリアスローリー特許権を侵害したとして、米国のテキサス州オスティン西部の地方裁判所に訴訟を提起するなど、韓国内の素材企業を相手取って全方位から特許戦を繰り広げてきた。去る1日には、イノックスを相手にDAF関連の特許を侵害したとして台湾において訴訟を提起したところ、これに対しイノックスは対応策として韓国内で特許無効訴訟を起こした。

日立化成の関係者は、「今後も知的財産権の競争において優位を確保するために積極的に権利を行使する」と述べた。