知的財産ニュース 国家知識産権局と日本国特許庁が「日中審判専門家会合」を初開催

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6月24～25日、日本国特許庁と中国国家知識産権局は、「日中審判専門家会合」を東京で初めて開催した。日本から中国への特許出願が増加しつつある中、日本の産業界が両国の審判制度の相違点への理解を深め、中国での知的財産権紛争を適切に対応できるようになることが狙いである。

すでに登録された特許を修正するための審判手続きは中国のほうがより厳しいなど、両国に制度、実務上の相違点が多数存在する。専門家会合で両国の関係者が関連情報を共有することが期待される。

特許庁によると、日本から中国への特許出願件数は昨年、世界1位の約4万件に達した。また、日本企業の海外現地法人保有数は中国が最も多く、中国への輸出額も米国に次ぐ2位で、中国は日本企業にとって重要な事業展開先となっているという。