知的財産ニュース 知的財産権保護への社会満足度、3年連続で上昇

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4月26日の「世界知的財産権デー」に先立ち、2014年度「知的財産権保護社会満足度調査」に関する結果がこのほど北京で発表された。調査結果から、昨年の知的財産権保護満足度は69.43点となり、3年連続で上昇したことがわかった。

中国は、2012年から3年連続で知的所有権保護に関する社会満足度調査を実施しており、その得点は2012年から順に、63.69、64.96、69.43点となっている。これに対し、中国特許保護協会の肖魯青事務局長は、「（満足度が）年々向上しているが、依然低い水準である」としている。

回答者の満足度をグループ別に見ると、香港、マカオおよび台湾の投資企業の権利者は他の企業より高く、商標権の権利者は特許権と著作権の権利者より高いという。

同調査は、中国専利保護協会、中華商標協会、中国版権協会と専門の情報サービス会社が共同で設立した「研究班」により実施された。権利者·一般市民·専門家といった3つのグループに分けてアンケートを実施し、回収した有効回答は1万2729件あったという。