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知的財産ニュース 中央3部署、グラフェン産業発展推進に関する「意見」発表

2015年11月30日
出所: 工業情報化部公式サイト 、中国知識産権資訊網、国土資源部公式サイト 2015年12月2日

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次世代のナノ炭素材料として脚光を浴びているグラフェンの開発、生産を推進するため、工業情報化部、発展改革委員会と科学技術部の3部署がこのほど、「グラフェン産業革新発展の加速に関する若干意見」(以下、意見)を正式発表した。

「意見」はグラフェン材料の大量作製及びグラフェンの各種機能に基づく材料作製のコア技術を巡って、企業と大学、科学研究所の協力を推進し、材料の規模化作製技術の共同開発とコア工芸及び核心装備の同時発展を促進し、産業化レベルを向上させ、グラフェンの層数、サイズ及び表面官能基等のコア参数の効率的なコントロールを実現し、グラフェン材料の規模化作製の工芸安定性、性能一致性、製品合格率を引き上げ、コストを有効的に引き下げるとしている。

そのためには、知的財産権制度をうまく利用し、企業と大学、科学研究所、知的財産権機構等によるグラフェン産業コア技術の知的財産権運用·保護体系の構築を推進し、特許取得の件数と品質を引き上げ、グラフェン産業のパテントマップを定期的に発布し、グラフェン知的財産権の運営プラットフォームを建設し、知的財産権の取引·保護メカニズムを完備し、知的財産権を効率よく利用することを求めた。

英国、米国、韓国などの各国が、グラフェンの産業化に着手している。中国はグラフェンの研究開発が最も盛んな国の一つである。データによると、中国のグラフェン関連の特許出願件数は2200件を超え、全世界の3分の1を占めている。

本ページに関するお問合せ

ジェトロ・北京事務所 知的財産部(担当:本間、水落、赤澤)
Tel:(+86)10-6528-2781(日本語可)
E-mail: PCB-IP@jetro.go.jp

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