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国際知的財産保護フォーラム(IIPPF)

平成18年度 国際知的財産保護フォーラムの総会・開催

2007年3月1日(木)午後2時より、発明会館(東京都港区)において「平成18年度国際知的財産保護フォーラム」の総会を開催しました。
来賓として中嶋特許庁長官、石黒経済産業省大臣官房審議官、小田部外務省経済局局長、藤田内閣官房知的財産戦略推進事務局次長、吉田農林水産省大臣官房審議官、森川財務相大臣官房参事官が出席されました。
来賓挨拶では、中嶋長官より(1)昨年6月の第4回官民合同訪中代表団において中国側から日本政府、産業界と意見交換をしたいという画期的な提案を受けたことや、(2)中国の知財担当官に対するキャパシティービルディングの着実な進展、(3)第3次専利法改正案で、我が国の要望が改正案に反映されるなど、IIPPFの諸活動の成果について評価いただきました。
続いて、石黒審議官からは、経済産業省として来る第5回訪中代表団の成果に期待している旨のご発言をいただきました。
これを受け、宗国座長から、(1)知的財産権保護に係わる日中間の対話路線は現在極めて良好な状況にあり、今後も継続していくことが重要であること、(2)知的財産権保護は中国のみならず世界的な課題であり、そのような視点からもIIPPFが積極的に活動していくことが重要との挨拶がありました。
続いて、各プロジェクトの幹事より平成18年度の活動報告が行われました。
第1プロジェクト(幹事:日本知的財産協会)からは、(1)訪中ミッション派遣、派遣後の協力事業を効率的かつ効果的に実施するため、新たにワーキンググループを立ち上げたこと、(3)国内外関係機関との連携、(4)第5回ミッションに向けての準備作業などの報告がありました。
第3プロジェクト(幹事:ジェトロ)からは、模倣品対策等の実務体験について積極的な情報交換・議論を通じ、プロジェクト参加メンバーの知的財産保護に関する意識の向上と情報共有に取り組んだ旨報告がありました。
第4プロジェクト(幹事:発明協会)からは、(1)これまでの研修等の枠組みを活用し、侵害関係国等の知財関係者を対象とした人材育成協力活動を通じ、知的財産権保護意識の向上を図るとともに、(2)IIPPFのウェブサイトを活用し、メンバーによる消費者向けメッセージの発信等を通じ、啓発に努めたことについて報告がありました。
なお、第2プロジェクトについては、平成18年度は休止中。
19年度の活動方針について事務局から、(1)侵害関係国への制度運用等改善要請、(2)中国関係機関への協力・支援、(3)業種横断的な情報交換、(4)人材育成協力・普及啓発、(5)知財保護に係わる国際連携の必要性などについて説明があり、19年度活動の骨子案として了承されました。
最後に、企画委員会メンバーの紹介後、渡辺副座長(ジェトロ理事長)より、今後とも関係各国との連携を深めながら、IIPPFは官民協調態勢を堅持しつつ、引き続き積極的に事業を展開していきたい旨の閉会挨拶がありました。

来賓挨拶を述べる中嶋特許庁長官

来賓挨拶を述べる中嶋特許庁長官

来賓挨拶を述べる石黒経済産業省大臣官房審議官

来賓挨拶を述べる
石黒経済産業省大臣官房審議官

挨拶を述べる宗国座長

挨拶を述べる宗国座長

閉会挨拶を述べる渡辺副座長

閉会挨拶を述べる渡辺副座長

議事次第

議事次第
日時:2007年3月1日(木)14:00-15:00
会場:発明会館 地下2階「ホール」
1.開会
2.来賓挨拶
3.座長挨拶
4.平成18年の活動報告
(1)第1プロジェクト
(2)第2プロジェクト
(3)第3プロジェクト
(4)第4プロジェクト
5.企画委員紹介
6.閉会挨拶

資料

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