米テキサス州の半導体助成、TOPPAN関連会社テクセンドフォトマスクに交付へ

米国テキサス州のグレッグ・アボット知事（共和党）は1月14日、同州の半導体支援助成金プログラム「Texas Semiconductor Innovation Fund（TSIF）」から1,520万ドルの助成金を日系企業のテクセンドフォトマスク・ラウンドロック（Tekscend Photomask、本社：テキサス州ラウンドロック（注1）に交付すると発表した。

同社は半導体製造に不可欠な半導体回路の設計図となる原版「フォトマスク」を製造・販売しており、今回の助成により、同社の製造施設拡充を支援し、総額2億2,300万ドルを超える同社の投資計画の一部を補填（ほてん）する。複数段階の拡充を計画しており、40％以上の生産能力増強を見込む。設備の刷新によって、12ナノメートル（nm）技術ノードに対応した高精度フォトマスクの供給を目指す。これにより、人工知能（AI）、産業機器、自動車、ワイヤレス通信関連機器など、多様な用途向けの半導体製造を支える体制が強化される。さらに、50人の高技能雇用の創出を見込み、地域経済への貢献も期待されている。

アボット知事は「テキサスは集積回路が生まれた地で、今後の半導体産業を牽引する場所である」として、今回の投資がテキサス州の半導体サプライチェーン強化に寄与するものと強調した。

日系企業としてTSIF助成を受けるのは、東京エレクトロン、三菱ガス化学ピュアケミカルズに続き、同社が3社目だ（2025年8月8日記事参照）。TSIF助成全体では、スペースXはじめ米企業4社、サムスンなどの韓国企業3社、研究・高等教育機関5校・機関など、今回を含め15件（注2）が選出されている。

（注1）テクセンドフォトマスク（旧・トッパンフォトマスク、2024年11月社名変更）は、半導体用フォトマスクの製造・販売会社として、TOPPANホールディングス（旧・凸版印刷）からの会社分割により設立。2022年4月から営業を開始。1987年からテキサス州ラウンドロック（オースティン近郊）に米国法人を構える。

（注2）助成の発表順に、インテリジェント・エピタキシー・テクノロジー（412万ドル）、ドンジン・セミケム（240万ドル）、シリコン・ラボラトリーズ（2,325万ドル）、コミコ・テクノロジーズ（200万ドル）、スペースX（1,730万ドル）、東京エレクトロン（308万ドル）、三菱ガス化学ピュアケミカルズ（530万ドル）、オースティン・コミュニティカレッジ（360万ドル）、サムスン・オースティン・セミコンダクター（2億5,000万ドル）、イェリコ（130万ドル）、テンプル・カレッジ（980万ドル）、テキサス量子研究所（480万ドル）、プレーリービューA＆M大学（198万ドル）、テキサス州立テクニカル・カレッジ（350万ドル）。

（キリアン知佳）