知的財産ニュース 特許庁、2021年度商標‧デザイン制度の動向説明会を開催

「新技術の画像デザインにおける保護対象の拡大」、「部分拒絶制度および再審査請求制度の導入」、「非典型商標における機能性審査の強化」などを紹介

韓国特許庁は、1月21日（木曜）午後4時から非対面のオンライン方式で、「2021年度商標‧デザイン制度の動向説明会」を開催すると発表した。

今回の説明会では、2021年から施行された商標審査基準およびデザイン制度の改善事項と商品分類告示および類似商品審査基準の改正事項、商標法‧デザイン保護法改正の推進内容などを紹介する予定である。

最初に、商標分野では立体‧位置‧音商標などのような非典型商標の機能審査を強化し、立体‧位置商標に対する図面提出件数の基準を緩和した。また、拒絶理由が解消されていない商品にのみ登録を拒絶する部分拒絶制度と登録が拒絶された商標について再審査を請求する制度を導入するなど、商標法の一部改正を進めている。

そして、商品分類分野では、「ビデオゲームのソフトウェア、音楽作曲用のソフトウェア」などの用途を明確に記載した商標のみ登録ができるようにし、「商標（商品）」と「サービス標（サービス業）」が類似しているかどうかについても、両標章の「用途」を中心に具体的・個別的に審査することで、ソフトウェア産業界の実際の取引に合致する合理的な商品の基準を設けることにした。

一方、デザイン分野では、フォントデザインの図面にフォントファイルの提出を許容し、デザイン一部審査（※）の対象を従来の3個類から7個類に拡大してトレンド性が強いデザインの迅速な権利化を支援した。それ以外に物品の外部または空間などに投影される新技術の画像デザインにおける保護対象の拡大と一組の物品のデザインに対する部分デザインも登録できるようにする制度の改善を推進している。

※デザイン一部審査：トレントのサイクルが短く、模倣されやすい物品のデザイン出願について、一定の要件のみを審査し、できるだけ早く権利を付与してデザイン権活用の実効性を高めるために運営する制度

さらに、産業別の商標情報を活用した産業界への支援策と英国の欧州連合（EU）離脱（ブレグジット）により変化する、商標‧デザイン関連の出願、更新、代理人の選任などの制度を案内する予定である。

今回の説明会は、KTV国民放送および特許庁のユーチューブで誰でもリアルタイムで参加することができ、2021年新たに施行される商標‧デザイン審査および支援制度に関連する多様かつ有用な情報を得ることができ、特許庁のウェブサイトで説明会の発表資料を確認することができる。

特許庁の商標デザイン審査局長は、「今回の説明会を通じて新たに施行される商標‧デザイン制度に対する顧客の理解度を高め、商標‧デザイン権の取得を希望する出願人の権利確保に役に立つことを願っている」と述べた。