知的財産ニュース 商標分野における日中韓の協力が始まる

中国・武漢で開かれた日中韓特許庁長官会談で合意

商標分野における日中韓3カ国の協力が始まる。

韓国特許庁長は12月13日、中国武漢で日中韓特許庁長官会談（注1）を行い、これまで進めてきた特許審判、デザイン、教育分野における3カ国の協力を継続的に強化していく一方、商標分野における協力を新たに開始することで合意した。

域内での貿易増加に伴い、商標権保護の重要性が増している中、中国政府の組織改編が行われ、特許、デザインなどを所管する中国国家知識産権局が商標も所管することになった。これ受け、本格的に議論した結果、上記の合意に至ることができた。これは、中国向けの協力に対する需要が高い商標分野における協力チャンネルが拡大・強化されたといえるだろう。

3カ国の特許庁長官は知財権をめぐる国際紛争が増えている中、無効審判など知的財産権の争訟分野で特許庁間で協力する必要が高まっているという認識を共にし、この分野における協力を続けていくことで合意した。また、デザイン保護、知的財産権教育の分野でも継続して協力を強化していくことで合意した。

特許庁長は、3カ国が知的財産権に関して協力する意味について「日中韓は世界の特許件数の60％、PCT国際特許件数の47％を占める、特許における世界最大の経済圏」と評価し、「日中韓特許庁が協力・競争を行い、東アジア地域を世界で最もIPフレンドリーなエコシステムにしていくことが必要だ」と強調した。