知的財産ニュース 特許庁、公共機関の採用不正根絶対策を発表

韓国特許庁は2017.12.19（火曜）、庁長の主宰で傘下の公共機関長会議を開催した。会議では採用不正根絶対策を発表し、来年1月末までに関連制度の改善を終了することにした。 ＊参加機関：特許戦略開発院、発明振興会、特許情報院、特許情報振興センター、知識財産研究院、知識財産保護院（以上6つ）

根絶対策の主な内容は次のようである。不正採用者については合格又は任用を取り消すと共に、5年間、応募資格を制限する。また、こうした事項を事前に採用公告に明記することにした。採用不正を起こした従業員については直ちに業務から外し、懲戒の根拠づくりと共に採用関連の内部決裁書類については永久保存するよう関連規定を改正することにした。

機関の責任を強化するために監査の結果、採用不正が確認された機関には経営評価で不利益を与えることにした。併せて、政府指針との整合性を高めるために傘下の公共機関の内部規定124条項を来年1月末までに整備することにした。

この日の会議では、10月31日（火曜）に開かれた公共機関の採用不正根絶に向けた傘下機関長の緊急会議以降、各機関で策定した採用不正根絶実践行計画の発表と、それを裏付けるための機関長の採用不正根絶誓約書への署名も行われた。

特許庁長は、「採用過程の透明性および公正性向上に向けた迅速かつ継続的な制度改善のほか、健全な採用文化づくりのための各機関長のさらなる関心と努力が求められる」と強調した。