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中国へミッションを派遣、政府及び関係機関と意見交換、協力事項の実施を合意

平成17年度 国際知的財産保護フォーラムの総会・開催(2006.2.15)

去る2006年2月15日(水)午後2時より、発明会館(東京都港区)において「国際知的財産保護フォーラム」の総会を開催しました。
総会は、来賓の中嶋特許庁長官の挨拶をはじめ、関係官庁から経済産業省製造産業局の平工次長、内閣官房知的財産戦略推進事務局の藤田次長、財務省大臣官房の青山審議官、文化庁長官官房の辰野審議官、及び農林水産省大臣官房の吉田審議官の出席を得るとともに、宗国座長及び事務局団体を代表して発明協会の川田理事長が出席のもと開会され、宗国座長の挨拶後、議事に移り、具体的な活動を推進してきた4つのプロジェクトの各幹事より、平成16年から17年の活動の報告が行われました。
特に、第1プロジェクトにおいては、第3回国際知的財産保護官民合同訪中代表団(ミッション)を派遣し、(1)商品のデザイン模倣品の対策強化、(2)取締りと刑事訴追の強化、(3)再犯者対策の強化を通じた抑止効果の向上、(4)特定分野の審査促進、(5)周知商標による保護、(6)水際における権利者負担軽減について中国関係機関に優先的に要請したほか、中国関係機関に提案した協力・支援活動の実施状況及びミッションのフォローアップ等のためのアンケート調査を実施し、本年4月の実務レベルミッション、6月のハイレベルミッション派遣に向けた準備作業を進めている旨の報告がなされました。
続いて、事務局より、本年の活動結果を踏まえた今後の活動骨子として、知的財産権侵害品の製造・流通・消費に係る国・地域において権利が適確に保護されていない状況に鑑み、引き続き各プロジェクト活動の強化・拡充を図ることが必要である旨の説明があり、宗国座長から関係者に対し、フォーラム活動に対する積極的な支援・協力の要請がなされました。
また、同総会においては、発足から4年度目の終了を区切りとして、これまでの活動で生じてきた問題点などを踏まえ、事務局より提案された運営要領の改正が承認されたほか、本フォーラムの活動が海外における協調と支援等にシフトしていることを受け、事務局の交代が諮られ、平成18年4月からの新たな事務局として日本貿易振興機構が決定されました。
続いて、空席となっていた副座長には、日本貿易振興機構の渡辺修理事長を選出しました。
渡辺副座長は、就任挨拶において我が国産業界が一体となり官と連携しつつ、中国をはじめ知的財産権侵害に関係する国・地域における諸問題の解決に向け、本フォーラムの活動を一層強力に推し進めるとの姿勢を示すとともに、新たな事務局団体の立場から、これまで事務局を務めた発明協会に、引き続き協力団体として人材育成・普及啓発・模倣品対策を始めフォーラム活動全般に対する協力への期待表明がなされました。
最後に、フォーラムの活動方針を審議するための企画委員会について、宗国座長から新たに指名されたコンテンツ海外流通促進機構を加え、13団体のメンバーにより具体的な活動内容を検討するとの報告がなされ、閉会しました。

来賓挨拶を述べる中嶋誠特許庁長官

来賓挨拶を述べる中嶋誠特許庁長官

挨拶を述べる宗国旨英座長

挨拶を述べる宗国旨英座長

就任挨拶を述べる渡辺修副座長

就任挨拶を述べる渡辺修副座長

会場風景

会場風景

議事次第

日時:2006年2月15日(水)14:00-15:00
会場:発明会館地下2階「ホール」
1.開会
2.来賓挨拶
3.座長挨拶
4.平成16年~17年の活動報告
(1)第1プロジェクト
(2)第2プロジェクト
(3)第3プロジェクト
(4)第4プロジェクト
5.運営要領の改正
6.事務局の交代
7.副座長の選出
8.企画委員会メンバーの報告
9.閉会

資料