国際知的財産保護フォーラム総会開催

去る2004年2月20日（金）午前10時30分より、ホテルオークラで「国際知的財産保護フォーラム」の総会を開催しました。

総会は、来賓として泉信也経済産業副大臣が挨拶を述べたのをはじめ、関係官庁から特許庁の今井長官、経済産業省製造産業局の中嶋次長、警察庁長官官房の関審議官、外務省経済局の三輪審議官、財務省大臣官房の藤原審議官、及び文化庁長官官房の森口審議官の出席を得て、まず、森下洋一座長（松下電器産業㈱代表取締役会長）の挨拶後、議事に移り、具体的な活動を推進してきた4つのプロジェクトに関し、各プロジェクト幹事より、平成15年度における活動の報告が行われました。

特に、第1プロジェクトにおいては、昨年度取り纏めた提言及び訪中ミッションでの要請後の改善・被害状況を把握するため、フォーラム・メンバーに対して実施したアンケートの調査と、我が国政府に対し今後の対応を要請する「中国の知的財産権問題への対応に関する要望書」の作成の報告に加えて、、本年5月に官民合同の訪中ミッションを派遣すべく、準備作業を進めていることについての報告がなされました。

続いて、吉田副座長より、今後の各プロジェクト活動の課題を挙げつつ、知的財産権侵害品の製造・流通・消費に係る国・地域における権利の適確な保護については、困難性が増している状況に鑑み、平成16年度以降、引き続き各プロジェクト活動の強化・拡充を図ることが必要である旨、まとめの説明があり、森下座長から関係者に対し、フォーラム活動に対する積極的な支援・協力の要請がなされました。

また、同総会においては、発足から2年度目の終了を区切りとして、座長の交代が諮られ、新座長として日本自動車工業会の宗国旨英会長（本田技研工業㈱代表取締役会長）を選出しました。

宗国新座長の就任挨拶では、我が国産業界が一体となり官と連携しつつ、海外における知的財産権侵害問題の解決に全力を尽くすとの継続的な取り組み姿勢が示され、最後に、退任される森下座長から、まだまだ多くの課題が残されており、フォーラムの活動に対する期待が今後ますます高まる中、宗国新座長のリーダーシップのもと、それぞれの取り組みをさらに推進願いたいとの挨拶をもって閉会しました。

来賓挨拶を述べる 泉信也経済産業副大臣	挨拶を述べる森下洋一座長
就任挨拶を述べる宗国旨英新座長	活動とりまとめを行う吉田文毅副座長

資料

日時：2004年2月20日（金）10:30-11:30
会場：ホテルオークラ別館地下2階「曙の間」
1．開会
2．来賓挨拶
3．座長挨拶
4．平成15年度活動報告について
（1）第1プロジェクト
（2）第2プロジェクト
（3）第3プロジェクト
（4）第4プロジェクト
5．まとめ
6．その他
7．閉会

配布資料

• 平成15年度　活動報告(33KB)
• ミッションフォローアップ等のためのアンケート調査結果概要版(102KB)
• 中国の知的財産問題への対応に関する要望書(28KB)