セミナー・講演会Brabant–Hiroshima Innovation Bridge 日蘭半導体ジョイントワークショップ・ビジネスマッチング

ジェトロ広島および中国経済産業局は、オランダ・ブラバントと、広島を含む中四国地域の半導体分野における産学官関係者が一堂に会する「Brabant-Hiroshima Innovation Bridge」を実施します。

オランダ・ブラバントは、ASMLをはじめとする世界有数の半導体・ディープテック企業や研究機関が集積する、欧州有数のイノベーション拠点です。一方、広島を含む中四国地域も根強いものづくり産業の歴史のもと、近年は半導体関連産業や研究開発人材の集積が進んでいます。両地域はともに高度な技術力を中心に発展してきた点で共通し、今後の連携可能性が期待されています。

10月15日のジョイントワークショップでは、広島および中四国地域の半導体関連企業、大学等研究機関、中国経済産業局、広島県内自治体と、オランダを代表する産学官関係者が参加し、両地域の半導体エコシステムや国際連携の可能性について議論します。

また各社とのビジネスマッチングを10月13日（福山会場）および10月15日（広島会場）に実施しますので、是非新たな繋がりやビジネスチャンスを獲得いただければ幸いです。※広島会場の面談枠は非常に少なくなっております、福山会場でのお申込みを是非ご検討ください。

欧州（オランダ）は勿論、中国地域における半導体産業の最新動向にご関心がございましたら、産学官が揃う絶好の機会ですので是非奮ってご参加ください。

日時	ジョイントワークショップ：10月15日（木曜）14時00分～19時30分ビジネスマッチング：福山会場：10月13日（火曜）10時00分～17時00分広島会場：10月15日（木曜）ワークショップ時間内にご案内
場所	（下記参照）
内容	イベント概要会場： 13日：iti Setouchi（TSUNAGU広島福山会場オランダブース内） 15日：シェラトングランドホテル広島美波言語：日本語／英語招聘機関・企業：オランダ・ブラバントより7機関・企業 Brabant Development Agency（BOM） Netherlands Foreign Investment Agency（NFIA） University of Technology（TU/e）兼 Photonic Integration Technology Centre（PITC） Netherlands Organisation for Applied Scientific Research（TNO）兼 Chip Integration Technology Center（CITC） PhotonDelta Sioux Technologies FononTech ビジネスマッチングについて内容：申込内容を基に、オランダ側企業・機関が内容確認の上、面談希望先を選定します。マッチングの結果、不成立となる場合がありますので予めご了承ください。形式：対面・着席型時間：1面談あたり20分程度言語：日本語／英語（逐次通訳有）資料：申し込み時にパワーポイント1枚程度を提出 10月15日ジョイントワークショッププログラム概要（予定）第一部講演セッション（日本） 14：00 開会挨拶 14：05 ショートプレゼンテーション中国経済産業局広島県庁広島大学ローツェ株式会社三井化学株式会社マイクロンメモリジャパン株式会社日立ハイテク半導体関連企業（島根）第二部講演セッション（オランダ） 15：30 ショートプレゼンテーション BOM（ブラバント半導体エコシステム） NFIA（オランダ全域半導体エコシステム） TU/e・PITC（アイントホーフェン工科大学およびフォトニック集積エコシステム） TNO・CITC（産学連携機関および半導体研究開発拠点） PhotonDelta（欧州最先端のフォトニクスエコシステム） Sioux Technologies（ASML向け装置開発にも関わるハイテクエンジニアリング企業） FononTech（研究機関発スタートアップ）第三部トークセッション（日蘭合同） 16：45～17：45 トークセッション半導体産業（日）：中四国地域の役割と海外との連携事例（仮）半導体産業（蘭）：オランダの役割と日本との連携事例（仮）アカデミア（日蘭合同）：半導体人材育成と研究開発について（仮）第四部ネットワーキング交流会（立食形式・会費制） 18：30～19：30 ネットワーキング交流会 19：30 閉会
主催・共催	ジェトロ広島中国経済産業局
後援	広島県庁、東広島市、福山市、広島大学（全て予定）
参加費	無料 ※ネットワーキング交流会の参加費は4,000円です
定員	100名