知的財産ニュース TM5とID5、済州で開催

韓国特許庁は6月22日から25日まで済州新羅ホテルでTM5（注1）とID5（注2）の中間会合（Mid-Term Meeting）を開催すると発表した。

年末開催される年次会合（Annual Meeting）に先立って開かれるTM5・ID5の中間会合では、世界の商標・デザイン出願の7割以上を占める五庁が各庁で進める協力事業（注3）の進行状況を確認する。

また、新規事業を発掘し提供するなど、商標とデザイン分野における世界的流れや主要政策の方向について議論する。

韓国は昨年、スペインで開催されたTM5・ID5の年次会合で今年の議長国に選定され、国際商標制度とデザイン制度の議論における主導的な役割を担うことになった。

TM5会合では、海外商標出願において韓国国内の商品名称と異なり、商標登録が拒絶される問題を解決するための「共通認定商品リスト構築案（米国）」、海外出願における審査結果の予測可能性を高めるための「審査結果の比較分析事業（韓国）」などが議論される予定である。

ID5会合では、各国のデザイン保護制度を比較・分析した「デザイン登録要件の比較研究（韓国）」、「デザイン出願に影響を与える官庁の政策と基本経済要素解析（欧州）」などが扱われる予定である。

また、今年の中間会合では、現在進行している協力課題に加え、第4次産業革命時代に登場する新しい革新的商品やデザインを効果的に保護するために、韓国が提案した五庁間の新たな協力のビジョンを盛り込んだ共同宣言文（Joint Statement）についても議論する予定である。

特許庁商標デザイン審査局の局長は「TM5・ID5の中間会合および年次会合の開催を契機に、韓国が国際商標・デザイン制度に関する議論を主導することができる」と評価し、「五庁による積極的な協力や議論に基づき、第4次産業革命時代に新たに登場する商標とデザインを積極的に保護できるように取り組んでいきたい」と述べた。