知的財産ニュース 日中韓デザインフォーラムが開催

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韓国特許庁は、中国特許庁と日本特許庁と共同で、6月18日にソウル東大門デザインプラザー国際会議室において「日中韓デザインフォーラム」を開催すると発表した。

今年で5回目を迎える「日中韓デザインフォーラム」は、日本と中国、韓国の3カ国特許庁の有識者が集まり、デザイン保護に関する主な当面課題と、その解決策を議論するために結成され、毎年3国で持ち回り開催している。2012年には東京、2013年には中国の無錫市で開催された。

今年のデザインフォーラムは、1961年の制定以来の最大の見直しとなった「デザイン保護法」と「ハーグ協定に基づいた国際デザイン登録出願」制度施行を約15日前にした時期で開催されたため、非常に意味深いといえる。

さらに、今年のデザインフォーラムは、「Design, beyond protection」というテーマで開催され、デザインの法的保護に関する内容だけでなく、3Dプリンターの大衆化など、東アジア3カ国のデザイン界で起きている変化の動きや、デザインの共有と活用などを通じた第3世界の支援、地域社会の産業復興への貢献事例など、デザインの様々な役割をバランスよく取り扱う予定だ。

今回のフォーラムは、弁理士や弁護士などの知的財産の従事者だけでなく、実務デザイナーや学生など、デザインに関心があれば誰でも参加できる。また、最近公開され注目を集めている東大門デザインプラザーにて開催されるため、見所満載の行事になると期待されている。

キム・ヨンミン長官は、「今回の「日中韓デザインフォーラム」を通じて、デザイン権利が大事であることが広く認識されることを期待している。これからも、創造経済のコアともいえるデザイン創作がより積極的に行われ、創作者の努力がきちんと保護されるよう、制度的な基盤を整っていく構えだ」とコメントした。