知的財産に関する情報（The Daily NNA【韓国版】より）技術流出の防止強化策として、不正競争防止法の改正案が成立

The Daily NNA【韓国版】掲載（File No.186）
ジェトロ・ソウル 副所長 大塚 裕一（特許庁出向者）

2024年1月25日に、「不正競争防止および営業秘密保護に関する法律（以下、「不正競争防止法」）」の改正案が、国会で成立しました。韓国企業が有する世界的に高度な技術が、海外へと流出する事件が相次いでおり、これを防止するための策として、今回の改正案が期待されています。

半導体技術のように、韓国企業が世界的にも優位な高度技術を保有している現状において、これらの技術が海外企業へと流出する事件が発生しています。例えば、韓国企業に勤める技術に詳しい重要人物を、海外企業がヘッドハンティングの形で、有利な待遇で転職を勧め、人材ごと技術の引き抜きを行う行為などが発生しています。この場合、従前の法律においても刑事処罰が科されますが、その罰金は十分な額ではなく、より強い罰則が求められていました。また、発明者の許諾なく、勝手に他者がアイデアを奪取してビジネスを展開する場合、特許庁に通報しても、是正勧告を出すにとどまり、それ以上の処罰が無いことも問題となっていました。技術流出を意図的に図るその手法も、多様化・高度化しつつあり、抜本的な制度の見直しが必要となり、今回の法改正は政府と与野党の協力により、進められました。

韓国特許庁の発表によると、過去数年間での不正競争防止法に違反した犯罪は、下記表のとおりとなっており、400件ないし500件の高い水準で推移していることがわかります。高度な技術の流出は、たとえ1件であっても甚大な被害となることを考えると、この現状を打破する必要性・緊急性は非常に高いものとなっています。さらに、法人の割合が比較的高いことも特徴です。

今回の法改正は、A 犯罪行為に対する抑制および処罰強化、B 不法行為に対する行政的救済手段の強化、および、C 保護における法律の抜け穴解消の3つを柱としたものとなっています。

今回の法改正により従前に比して非常に強力な保護機能となりました。今後どの程度影響力が発揮されるのか注視したいと思います。

日本貿易振興機構（ジェトロ）ソウル事務所
副所長 大塚 裕一（日本国特許庁知財アタッシェ）
2002年日本国特許庁入庁後、特許審査官・審判官として審査・審判実務や管理職業務に従事。また特許庁 総務課・調整課・審判課での課長補佐、英国ケンブリッジ大学 客員研究員、（国）山口大学大学院技術経営研究科准教授、（独）INPIT 知財人材部長等を経て現職。