知的財産ニュース 中国、米国、カナダが多国間意匠データベース「DesignView」に参加
2015年9月16日
出所: 国家知識産権網
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9月14日、欧州共同体商標意匠庁(OHIM)主導の多国間意匠データベース「DesignView」に中国が正式に参加した。これにより、国内外のユーザーは「DesignView」で中国の意匠データを検索できるようになる。国内意匠情報のさらなる普及、活用を後押しするものとみられる。
2012 年11 月19 日、OHIM主導で「DesignView」というウェブサイトが開設された。現在の参加国·地域は35国で、合計860万件以上の意匠情報が収録されている。今回は中国の外、同データベースにカナダと米国も新たに参加した。
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