知的財産ニュース 知的財産権保護満足度が64.96点、前年比やや増加

ipshow_BID_4980.html

2013年度の「知的財産権保護社会満足度調査」結果がこのほど北京で発表された。同調査は中国専利保護協会、中華商標協会、中国版権協会と北京美蘭徳信息公司が共同で設立した「知的財産権保護社会満足度調査研究班」により実施され、昨年に続き2回目となる。調査結果から、2013年の知的財産権保護に対する社会満足度は64.96点で、前年より1.27点とやや増加したことが分かった。

総体的には改善が見られる一方、法執行と普及啓発活動に対する満足度は下がった。普及啓発活動への満足度は前年より2.47点減少。また、法執行の面では、権利侵害の深刻さ、損害賠償の適時性、救済手段の利便性などに対する不満が高かった。