知的財産ニュース GE研究開発センター、上海でポスドクステーションを設置

2013年12月19日
出所: 新華網

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上海にあるゼネラル·エレクトリック(GE)の中国研究開発センターは16日、上海でポスドクステーションを設置したことを発表した。博士研究員を招聘して先端素材と分散型エネルギーシステム、高温超伝導磁石、船舶電気推進技術などの研究を展開することとしている。

GE中国研究開発センターはGEが世界に設置した5大基礎研究開発センターの1つで、上海、北京、成都、西安、無錫の各地で150以上の実験室、約3000名の研究者を抱えている。

同研究開発センターの陳向力·総裁は、エンジニアは「中国夢」を実現するためのイノベーターと推進者であり、企業、経済の発展にとって重要不可欠な支えであると指摘し、ポスドクステーションの設立で上海、さらに中国のためにより多くのイノベーションの人材を養成することに期待を示した。

同日に行われた「2013GE科学技術イノベーション大会」に、清華大学、上海交通大学、中国科技大学、電子科技大学、浙江大学、西安交通大学、ハルビン工業大学、華中科技大学、香港理工大学、香港科技大学の学生から新エネルギー、医療診断、先端製造など分野のイノベーションプランが提出された。

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