技術・工業および知的財産権供与に関わる制度

知的財産権法（2002年法律82号）の内容は、4分野に分けられる。

1. 特許権、実用新案、集積回路のためのレイアウト設計および非公開情報
2. 商号権、商標権、地理的表示および意匠権
3. 著作権および著作隣接権
4. 植物品種

特許権、商標、著作権の保護期間などについては、次のとおり。

1. 特許権
   • 保護期間は出願の日から20年。
   • 特許出願の際には出願料を支払う必要がある。また、特許登録の2年目以降から特許権の存続期間の満了まで、毎年特許料を支払う必要がある。
2. 商標
   • 保護期間は、出願の日から10年（商標権者の請求により同一期間の更新可能）。
   • 商標登録は、規定に基づく申請料とともに商業登録局宛に申請を行う。
   • 商標権侵害は、商法（1997年法律17号）第66条に基づき、不正競争行為として罰せられる。
3. 著作権
   • 本の著作権の保護期間は、法人については第1版の出版から50年。自然人については、創作時から死後50年。

特許審査ハイウェイ

日本の特許庁とエジプト特許庁は、特許審査ハイウェイ（PPH）試行プログラムを2015年6月1日から開始、2017年6月1日より試行期間を3年間延長した。PPH申請の対象案件を拡大するため、「PPH MOTTAINAI」および「PCT-PPH」を追加し、2020年6月1日から受付を開始。2023年5月31日で終了予定だが、必要に応じて延長される予定。

特許庁：日エジプト特許審査ハイウェイ試行プログラムについて